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 Ex situ dry cleaning of reactor component of nitride metal organic chemical vapor deposition using chlorinated gases 相关领域
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期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Yasushi Fukuda; Takashi Orita; Nakao Akutsu; Kazutada Ikenaga; Syuuichi Koseki; et al 出版日期：2006-12-07 |
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