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Multiscale coupled plasma–feature simulation for 3D profile evolution in Si etching under HBr/Cl2 mixture plasmas |
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期刊:Physics of Plasmas 作者:Yeong-Geun Yook; Sang-Young Chung; H. S. You; Jae Hyeong Park; Won-Seok Chang; et al 出版日期:2026-08-01 |
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(2025-6-4)