High-K Bubble Defect Researches in Stack-BSI Process Product

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标题	High-K Bubble Defect Researches in Stack-BSI Process Product 相关领域浅沟隔离钝化薄脆饼硅堆栈（抽象数据类型）材料科学气泡光电子学 CMOS芯片压力（语言学）沟槽计算机科学纳米技术图层（电子）哲学并行计算语言学程序设计语言
网址	https://doi.org/10.1109/cstic52283.2021.9461252
DOI	10.1109/cstic52283.2021.9461252 doi
其它	期刊：作者：Zhuo Yin; Jianjun Li; Xiaoping Liu; Zhu Na; Lifeng Liu; et al 出版日期：2021-03-14
求助人	dz 在 2023-07-29 19:51:15 发布自安徽，悬赏 10 积分
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