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标题
[高分] 学位论文 Atomic layer deposition of copper for CMOS interconnects
用于CMOS互连的铜原子层沉积
相关领域
原子层沉积 CMOS芯片 铜 图层（电子） 沉积（地质） 材料科学 光电子学 纳米技术 冶金 地质学 古生物学 沉积物
网址
https://cora.ucc.ie/handle/10468/1522
AI链接 ucc.ie
DOI
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其它 期刊：
作者：Dirk J. Hagen
出版日期：2013-01-01
求助人
Zever 在 2025-02-14 11:08:07 发布自湖北，悬赏 50 积分
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