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Time-resolved investigation of dual high power impulse magnetron sputtering with closed magnetic field during deposition of Ti–Cu thin films 相关领域
高功率脉冲磁控溅射
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:Vítězslav Straňák; Martin Čada; Zdeněk Hubička; M. Tichý; R. Hippler 出版日期:2010-08-15 |
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