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标题
A computational study of the double hysteresis phenomenon during reactive sputtering
相关领域
磁滞 溅射 流量（数学） 机械 材料科学 电流（流体） 分析化学（期刊） 化学 热力学 纳米技术 凝聚态物理 色谱法 物理 薄膜
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6463/ac761c
AI链接 iop.org ugent.bedoi.org
DOI
10.1088/1361-6463/ac761c doi
其它 期刊：Journal of Physics D Applied Physics
作者：Josja Van Bever; K. Strijckmans; Diederik Depla
出版日期：2022-06-06
求助人
liuxch5 在 2026-01-09 10:28:35 发布自山西，悬赏 10 积分
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