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  • 文献求助详情
标题
Analysis on the dependence of layout parameters on ESD robustness of CMOS devices for manufacturing in deep-submicron CMOS process
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx5/66/27403/01219497.pdf?ar...
DOI
10.1109/tsm.2003.815200 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
作者：Tung-Yang Chen; Ming-Dou Ker
出版日期：2003-08-12
求助人
张张 在 2026-11-03 21:32:10 发布自江苏，悬赏 10 积分
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