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 In situ monitoring of industrial-scale chemical vapor deposition using residual gas analysis 利用残余气体分析对工业规模化学气相沉积进行现场监测
相关领域
残余气体分析仪
材料科学
工艺工程
工业气体
化学气相沉积
薄膜
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半导体器件制造
纳米技术
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计算机科学
机械工程
化学
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病理
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期刊：Surfaces and Interfaces 作者：Munse Kim; Kwan Hong Min; Hee‐eun Song; Sungeun Park; Yunae Cho; et al 出版日期：2024-07-06 |
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