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标题
Dopant Engineering of Hafnia‐Based Ferroelectrics for Long Data Retention and High Thermal Stability
用于长数据保持和高热稳定性的铪基铁电体的掺杂工程
相关领域
哈夫尼亚 铁电性 材料科学 掺杂剂 光电子学 非易失性存储器 电容器 铁电RAM 晶体管 兴奋剂 电子工程 电气工程 陶瓷 复合材料 电介质 工程类 立方氧化锆 电压
网址
DOI
10.1002/smll.202306871 doi
其它 期刊:Small
作者:Ik‐Jyae Kim; Jang‐Sik Lee
出版日期:2023-11-15
求助人
YiAn-horizon 在 2025-11-04 08:49:44 发布自江苏,悬赏 10 积分
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