| 标题 |
  Dose influence on the PMMA e-resist for the development of high-aspect ratio and reproducible sub-micrometric structures by electron beam lithography 相关领域
抵抗
电子束光刻
材料科学
平版印刷术
纵横比（航空）
阴极射线
X射线光刻
纳米光刻
光学
电子
下一代光刻
梁（结构）
光电子学
制作
纳米技术
物理
替代医学
图层（电子）
病理
医学
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：AIP conference proceedings 作者：Andrea Veroli; Francesco Mura; M. Balucani; Ruggero Caminiti 出版日期：2016-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
幽壑之潜蛟
Fancy
轨迹
GingerF
无情的踏歌
Criminology34
Jbiolover
99giddens
无极微光
NattyPoe
冰渊悬月
VDC
维奈克拉
Sinrey
浮游漂漂
yr
andrele
情怀
清秀的金鱼
Twonej
杀出个黎明
kento
寻道图强
MchemG
皖公网安备34019202002308
