Etch-stop mechanisms in plasma-enhanced atomic layer etching of silicon nitride: A molecular dynamics study

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标题	Etch-stop mechanisms in plasma-enhanced atomic layer etching of silicon nitride: A molecular dynamics study
网址	https://doi.org/10.1116/6.0003750
DOI	10.1116/6.0003750 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Jomar U. Tercero; Michiro Isobe; Kazuhiro Karahashi; Magdaleno R. Vasquez; Satoshi Hamaguchi 出版日期：2024-08-05
求助人	hustliuxiao 在 2026-07-09 13:17:24 发布自湖北，悬赏 10 积分
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