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 Plasma enhanced chemical vapor‐deposited SiOx(Ny)/n‐type polysilicon on oxide passivating contacts in industrial back‐contacted Si solar cells 等离子体增强化学气相沉积SiOx（Ny）/n型多晶硅在工业背接触硅太阳电池中的应用
相关领域
材料科学
化学气相沉积
氧化物
等离子体
多晶硅耗尽效应
分析化学（期刊）
光电子学
化学
冶金
电气工程
晶体管
栅氧化层
物理
环境化学
量子力学
电压
工程类
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期刊：Solar RRL 作者：Verena Mertens; Silke Dorn; Jonathan Langlois; Maximilian Stöhr; Yevgeniya Larionova; et al 出版日期：2024-01-29 |
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