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  Structural and electrical characteristics of ion-induced Si damage during atomic layer etching 原子层刻蚀过程中离子诱导Si损伤的结构和电学特性
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Akiko Hirata; Masanaga Fukasawa; Katsuhisa Kugimiya; Kazuhiro Karahashi; Satoshi Hamaguchi; et al 出版日期：2022-03-23 |
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