High deposition rate of epitaxial (1 0 0) Iridium film on (1 0 0) YSZ/(1 0 0) Si substrate by RF sputtering deposition

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标题	High deposition rate of epitaxial (1 0 0) Iridium film on (1 0 0) YSZ/(1 0 0) Si substrate by RF sputtering deposition
网址	http://dx.doi.org/10.1016/S0040-6090(02)00761-7
DOI	10.1016/S0040-6090(02)00761-7 doi
其它	T.D. Khoa, S. Horii, S. Horita
求助人	lele 在 2026-03-06 22:06:42 发布自上海，悬赏 40 积分
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