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Effect of plasma discharge pulse length for GaN film crystallinity on sapphire substrate by high density convergent plasma sputtering device 等离子体放电脉冲长度对蓝宝石衬底上GaN薄膜结晶度的影响
相关领域
材料科学
等离子体
蓝宝石
结晶度
溅射
光电子学
基质(水族馆)
溅射沉积
光学
薄膜
纳米技术
复合材料
激光器
物理
量子力学
海洋学
地质学
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:Itsuki Misono; Taisei Motomura; Tatsuo Tabaru; Masato Uehara; Tetsuya Okuyama 出版日期:2024-07-25 |
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