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标题
Low-energy Ar+ ion beam induced chemical vapor deposition of silicon carbide films using dimethylsilane
二甲基硅烷低能Ar+离子束诱导化学气相沉积碳化硅薄膜
相关领域
二甲基硅烷 X射线光电子能谱 基质（水族馆） 离子束 分析化学（期刊） 硅 材料科学 化学气相沉积 傅里叶变换红外光谱 碳化硅 离子束沉积 离子束辅助沉积 离子 化学 纳米技术 化学工程 光电子学 冶金 工程类 高分子化学 海洋学 地质学 有机化学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1016/j.nimb.2022.07.016
DOI
10.1016/j.nimb.2022.07.016 doi
其它 期刊：Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B Beam Interactions with Materials and Atoms
作者：Satoru Yoshimura; Satoshi Sugimoto; Takae Takeuchi; Kensuke Murai; Masato Kiuchi
出版日期：2022-08-06
求助人
baz 在 2025-12-05 19:35:56 发布自陕西，悬赏 10 积分
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