Pathways to high-performance extreme ultra-violet lithography resists: Dissociative electron attachment to pentafluoro-phenyl triflate

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标题	Pathways to high-performance extreme ultra-violet lithography resists: Dissociative electron attachment to pentafluoro-phenyl triflate
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.isci.2025.114020
DOI	10.1016/j.isci.2025.114020 doi
其它	期刊：iScience 作者：Mónica Mendes; Reza Tafrishi; Pedro Guerra; Fabian Holzmeier; Oddur Ingólfsson; et al 出版日期：2025-12-01
求助人	QQ 在 2026-09-17 20:15:53 发布自北京，悬赏 10 积分
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