Source mask optimization for extreme-ultraviolet lithography based on thick mask model and social learning particle swarm optimization algorithm

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标题	Source mask optimization for extreme-ultraviolet lithography based on thick mask model and social learning particle swarm optimization algorithm
网址	https://doi.org/10.1364/oe.418242
DOI	10.1364/oe.418242 doi
其它	期刊：Optics Express 作者：Zinan Zhang; Sikun Li; Xiang-zhao Wang; Wei Cheng; Yu-qiang Qi 出版日期：2021-02-15
求助人	核桃在 2026-07-09 23:09:54 发布自湖北，悬赏 10 积分
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