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![]() 高κ介电铁间隔物工程Si/SiGe异质结线TFET的性能评估:TCAD方法
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期刊:IEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation 作者:Sourabh Panwar; Shobhit Srivastava; M. Shashidhara; Abhishek Acharya 出版日期:2023-04-11 |
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