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标题
Acceptor-oxygen defects in silicon: The electronic properties of centers formed by boron, gallium, indium, and aluminum interactions with the oxygen dimer
硅中的受体-氧缺陷：硼、镓、铟和铝与氧二聚体相互作用形成的中心的电子性质
相关领域
硅 镓 接受者 铟 深能级瞬态光谱 硼 掺杂剂 材料科学 氧气 杂质 兴奋剂 空位缺陷 分析化学（期刊） 化学 结晶学 光电子学 冶金 凝聚态物理 有机化学 物理 色谱法
网址
https://doi.org/10.1063/5.0076980
AI链接 scitation.orgdoi.org
DOI
10.1063/5.0076980 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Joyce Ann T. De Guzman; В. П. Маркевич; I.D. Hawkins; J. Coutinho; Hussein M. Ayedh; et al
出版日期：2021-12-28
求助人
生化幻彩 在 2025-08-19 01:01:26 发布，悬赏 10 积分
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