Structuring Silicon in a High-Frequency Discharge of Freon R-23

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标题	Structuring Silicon in a High-Frequency Discharge of Freon R-23 氟利昂R-23高频放电中硅的结构化相关领域氟利昂薄脆饼材料科学蚀刻（微加工）光电子学半导体等离子体表面粗糙度等离子体刻蚀表面光洁度硅干法蚀刻反应离子刻蚀数码产品纳米技术工程物理复合材料电气工程化学物理工程类有机化学图层（电子）量子力学
网址	https://doi.org/10.1134/s1063739722030039
DOI	10.1134/s1063739722030039 doi
其它	期刊：Russian Microelectronics 作者：Andrey Dunaev; Д. Б. Мурин 出版日期：2022-06-01
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