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Reactive ion etching of indium gallium zinc oxide (IGZO) and chamber cleaning using low global warming potential gas
铟镓锌氧化物（IGZO）的反应离子蚀刻和使用低全球变暖势气体的腔室清洁
相关领域
铟 镓 材料科学 蚀刻（微加工） 锌 反应离子刻蚀 氧化物 离子 光电子学 化学工程 纳米技术 无机化学 冶金 化学 图层（电子） 工程类 有机化学
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.160692
DOI
10.1016/j.apsusc.2024.160692 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Jong Woo Hong; Hyun Woo Tak; Nam Il Cho; Hyeong Joon Eoh; Chan Ho Kim; et al
出版日期：2024-07-07
求助人
slby 在 2025-08-26 07:05:26 发布，悬赏 10 积分
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