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[求助补充材料]
The Underlying Chemical Mechanism of Selective Chemical Etching in CsPbBr3 Nanocrystals for Reliably Accessing Near-Unity Emitters CsPbBr3纳米晶中选择性化学蚀刻的基本化学机制
相关领域
纳米晶
蚀刻(微加工)
各向同性腐蚀
材料科学
纳米技术
机制(生物学)
光电子学
图层(电子)
物理
量子力学
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| 其它 |
期刊:ACS Nano 作者:Brent A. Koscher; Zachary Nett; A. Paul Alivisatos 出版日期:2019-09-25 |
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