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 Selective atomic layer etching of Al2O3, AlNx and HfO2 in conventional ICP etching tool 相关领域
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期刊：Vacuum 作者：Vitaly Kuzmenko; Yury Lebedinskij; Andrey V. Miakonkikh; K. V. Rudenko 出版日期：2022-10-17 |
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