| 标题 |
[求助补充材料]
A benchmark study on tetravalent ion doping in heteroepitaxial β-Ga2O3 films fabricated by pulsed laser deposition 脉冲激光沉积异质外延β-Ga2O3薄膜中四价离子掺杂的基准研究
相关领域
材料科学
掺杂剂
兴奋剂
脉冲激光沉积
外延
结晶度
X射线光电子能谱
薄膜
结晶
光电子学
分析化学(期刊)
锡
纳米技术
化学工程
复合材料
冶金
化学
图层(电子)
色谱法
工程类
|
| 网址 | |
| DOI |
暂未提供,该求助的时间将会延长,查看原因?
|
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|