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 Effect of thermal annealing and nitrogen content on amorphous silicon thin‐film crystallization 热退火和氮含量对非晶硅薄膜晶化的影响
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期刊：physica status solidi (a) 作者：Hachemi Bouridah; F. Mansour; R. Mahamdi; NEDJMEDDINE BOUNAR; P. Temple‐Boyer 出版日期：2007-04-02 |
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