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标题
EUV mask defect material characterization through actinic lensless imaging
通过光化无透镜成像表征EUV掩模缺陷材料
相关领域
极紫外光刻 光学 材料科学 计量学 相干衍射成像 极端紫外线 表征（材料科学） 平版印刷术 衍射 振幅 相（物质） 样品（材料） 显微镜 光电子学 相位恢复 纳米技术 物理 傅里叶变换 激光器 量子力学 热力学
网址
https://doi.org/10.1117/12.2613337
AI链接 lib4ri.ch lib4ri.chdoi.org
DOI
10.1117/12.2613337 doi
其它 期刊：Metrology, Inspection, and Process Control XXXVI
作者：Tao Shen; Dimitrios Kazazis; Hyunsu Kim; Atoosa Dejkameh; Ricarda Nebling; et al
出版日期：2022-05-26
求助人
Tianling 在 2025-11-03 09:23:31 发布自北京，悬赏 20 积分
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