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  EUV mask defect material characterization through actinic lensless imaging 通过光化无透镜成像表征EUV掩模缺陷材料
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期刊：Metrology, Inspection, and Process Control XXXVI 作者：Tao Shen; Dimitrios Kazazis; Hyunsu Kim; Atoosa Dejkameh; Ricarda Nebling; et al 出版日期：2022-05-26 |
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