Optimization of ion energy distribution and ion angular distribution by tuning chamber radius in inductively coupled plasma etching

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标题	Optimization of ion energy distribution and ion angular distribution by tuning chamber radius in inductively coupled plasma etching
网址	https://doi.org/10.1116/6.0005102
DOI	10.1116/6.0005102 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Jian-Hai Han; De‐Qi Wen; Han-Cheng Xu; Shao-Feng Xu; Ying Guo; et al 出版日期：2026-04-16
求助人	清一在 2026-09-20 11:21:34 发布自美国，悬赏 10 积分
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