| 标题 |
[求助补充材料]
 One‐Step Radical‐Intensified Selective Etching (RISE) Strategy for High‐Yield Synthesis of Monolayer MXene with Tailored Nanoholes 相关领域
单层
材料科学
蚀刻（微加工）
纳米技术
电容感应
电极
光电子学
各向同性腐蚀
过程（计算）
化学气相沉积
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Angewandte Chemie International Edition 作者：Chenxu Liu; Hao Zhang; Anirban Sikdar; Kanglei Pang; Guangyuan Ma; et al 出版日期：2026-05-04 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
昏睡的蟠桃
潇洒的惋清
小小
chandangfo
Moonpie
贪玩的秋柔
vc
GingerF
干净的琦
学术文献互助
Luu
科研狗
张欢馨
8R60d8
殷勤的紫槐
916
蓝天
喜喜不嘻嘻
OsamaKareem
皖公网安备34019202002308
