OCD enhanced: implementation and validation of spectral interferometry for nanosheet inner spacer indentation

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标题	OCD enhanced: implementation and validation of spectral interferometry for nanosheet inner spacer indentation
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.2582364
DOI	10.1117/12.2582364 doi
其它	期刊：Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV 作者：Daniel Schmidt; Curtis Durfee; Shanti Pancharatnam; Manasa Medikonda; Andrew Greene; et al 出版日期：2021-03-05
求助人	pancake 在 2026-08-13 16:32:07 发布自河南，悬赏 20 积分
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