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标题
Etching characteristics of high-k dielectric HfO2 thin films in inductively coupled fluorocarbon plasmas
网址
https://doi.org/10.1116/1.2073468
DOI
10.1116/1.2073468 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
作者：Kazuo Takahashi; Kouichi Ono; Yuichi Setsuhara
出版日期：2005
求助人
junc 在 2026-03-31 19:57:08 发布自江苏，悬赏 10 积分
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