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标题
Amorphous N-doped InSnZnO thin films deposited by RF sputtering for thin-film transistor application
相关领域
薄膜晶体管 材料科学 溅射 光电子学 薄膜 无定形固体 兴奋剂 溅射沉积 图层(电子) 晶体管 无线电频率 电气工程 纳米技术 化学 结晶学 电压 工程类
网址
DOI
10.1039/d3ma00500c doi
其它 期刊:Materials Advances
作者:Zhi-Yue Li; Shumei Song; Wanxia Wang; Mingjiang Dai; Songsheng Lin; et al
出版日期:2023-01-01
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风中擎 在 2025-11-28 14:29:34 发布自湖南,悬赏 10 积分
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