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Gate Leakage vs. NBTI in Plasma Nitrided Oxides: Characterization, Physical Principles, and Optimization
等离子体氮化氧化物中栅极泄漏与NBTI的关系:表征、物理原理和优化
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期刊: 作者:Ahmad E. Islam; Gaurav Gupta; S. Mahapatra; A.T. Krishnan; K. Ahmed; et al 出版日期:2006-01-01 |
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