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 Environment-friendly chemical mechanical polishing using NaHCO3-activated H2O2 slurry for highly efficient finishing of 4H-SiC (0001) surface NaHCO3活化H2O2浆料高效化学机械抛光4H-SiC（0001）表面
相关领域
材料科学
泥浆
抛光
环境友好型
化学机械平面化
过氧化氢
碳化硅
表面粗糙度
表面光洁度
复合材料
化学工程
有机化学
化学
生态学
生物
工程类
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期刊：Journal of Manufacturing Processes 作者：Yansong Shen; Haoxiang Wang; Xiaoguang Guo; Shang Gao 出版日期：2024-01-01 |
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