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Influences of deposition and crystallization kinetics on the properties of silicon films deposited by low-pressure chemical vapour deposition from silane and disilane
沉积和结晶动力学对硅烷和二硅烷低压化学气相沉积硅膜性能的影响
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期刊:Thin solid films 作者:Pierre Temple‐Boyer; Bernard Rousset; E. Scheid 出版日期:2010-09-01 |
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