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 A Comparison of CF4, CHF3 and C4F8 + Ar/O2 Inductively Coupled Plasmas for Dry Etching Applications 干法刻蚀用CF4、CHF3和C4F8+Ar/O2电感耦合等离子体的比较
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期刊：Plasma Chemistry and Plasma Processing 作者：Nomin Lim; Alexander Efremov; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2021-07-07 |
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