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 In situ silicon-wafer temperature measurements during RF argon-ion plasma etching via fluoroptic thermometry 射频氩离子等离子体刻蚀过程中的荧光测温法原位测量硅片温度
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期刊：Journal of Physics D Applied Physics 作者：Ingo Hussla; K. Enke; H. Grünwald; G. Lorenz; H.-P. Stoll 出版日期：1987-07-14 |
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