| 标题 |
Vertical field inhomogeneity associated with threading dislocations in GaN high electron mobility transistor epitaxial stacks 相关领域
材料科学
外延
电场
基质(水族馆)
光电子学
晶体管
凝聚态物理
泄漏(经济)
场效应晶体管
宽禁带半导体
开尔文探针力显微镜
透射电子显微镜
原子力显微镜
纳米技术
图层(电子)
物理
海洋学
量子力学
电压
地质学
经济
宏观经济学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:Markus Wohlfahrt; Michael J. Uren; Yidi Yin; Kean Boon Lee; Martin Kuball 出版日期:2021-12-13 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)