| 标题 |
[高分]
  Effect of Sputtering Power on the Nucleation and Growth of Cu Films Deposited by Magnetron Sputtering 溅射功率对磁控溅射Cu薄膜成核和生长的影响
相关领域
溅射
成核
材料科学
溅射沉积
高功率脉冲磁控溅射
结晶度
微观结构
薄膜
电阻率和电导率
冶金
复合材料
纳米技术
化学
电气工程
有机化学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：MATERIALS TRANSACTIONS 作者：Minh-Tung Le; Yong-Un Sohn; Jae‐Won Lim; Good‐Sun Choi 出版日期：2009-12-25 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
invisight
Yinxb
DW
aajhajkahna
林狗
蓝天
科研狗
璐璐
aaaa
七听
xing_xing
pluto
123
秦艽
嘻嘻哈哈
123
猖狂战神
学术文献互助
OK
QM
皖公网安备34019202002308
