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![]() 氢稀释比和热线温度协同调节HWCVD生长i-a-Si:H薄膜的优化
相关领域
材料科学
氢
硅
稀释
分析化学(期刊)
化学
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Hongchen Meng; Xiaoyuan Wu; Guoshun Zhong; Lang Zhou 出版日期:2025-05-12 |
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