| 标题 |
 Chaos-enhanced self-adaptive particle swarm optimization with simulated annealing for digital lithography mask optimization 基于模拟退火的混沌增强自适应粒子群算法在数字光刻掩模优化中的应用
相关领域
材料科学
模拟退火
粒子群优化
平版印刷术
退火（玻璃）
纳米光刻
纳米技术
混沌（操作系统）
多群优化
光电子学
计算机科学
算法
复合材料
病理
替代医学
制作
医学
计算机安全
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Shengzhou Huang; Dongjie Wu; Yuanzhuo Tang; Bowen Ren; Jiani Pan; et al 出版日期：2025-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
科研助手6
昏睡的蟠桃
cdercder
发财暴富财富自由没我快吧嘻嘻嘻
SYLH
bc
iNk
jenningseastera
科研小民工
lin
kingwill
平常的毛豆
ZhouYW
椰子在长江送礼物
nozero
遇上就这样吧
VDC
简单的千凝
back you up
HEIKU
皖公网安备34019202002308
