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 Microstructure and properties of nanocrystalline Cu–Ta thin films prepared by direct current magnetron sputtering 直流磁控溅射制备Cu-Ta纳米晶薄膜的组织与性能
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期刊：Surface Engineering 作者：Wu Tian; Jiaoyan Dai; Lijun Zhang; Yongqiang Chang; Mingdong Bao; et al 出版日期：2020-04-10 |
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ihubx
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