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 Atomic diffusion and interface reaction of Cu/Si (111) films prepared by ionized cluster beam deposition 离子簇束沉积Cu/Si（111）薄膜的原子扩散和界面反应
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期刊：Vacuum 作者：Bo Cao; Tongrui Yang; Gongping Li; Seong Jin Cho; Hee Kim 出版日期：2011-12-12 |
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