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![]() 抑制溶剂夹杂的SiC固溶生长悬垂结构形成过程的数值模拟
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期刊:Crystal Growth & Design 作者:Huiqin Zhou; Hitoshi Miura; Yifan Dang; Kentaro Kutsukake; Shunta Harada; et al 出版日期:2025-07-01 |
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