Regulation of silicon bottom corner flatness through multi-parameter collaborative optimization in deep reactive ion etching

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标题	Regulation of silicon bottom corner flatness through multi-parameter collaborative optimization in deep reactive ion etching
网址	http://dx.doi.org/10.1117/1.jmm.25.2.023601
DOI	10.1117/1.jmm.25.2.023601 doi
求助人	科研菜鸡在 2026-10-18 18:56:24 发布自湖北，悬赏 20 积分
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