Plasma-surface interactions of model polymers for advanced photoresists using C4F8∕Ar discharges and energetic ion beams

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标题	Plasma-surface interactions of model polymers for advanced photoresists using C4F8∕Ar discharges and energetic ion beams
网址	https://doi.org/10.1116/1.2759935
DOI	10.1116/1.2759935 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 作者：S. Engelmann; R. L. Bruce; T. Kwon; R. Phaneuf; G. S. Oehrlein; et al 出版日期：2007
求助人	研友_LXOBO8 在 2026-10-24 23:02:45 发布自湖北，悬赏 10 积分
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