Plasma Etching of Nitrogen-Rich TaN Films Using SF6/Ar Chemistry and Oxide Hard Mask: Polymer Residue Formation and Removal Challenges

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标题	专利、报告等 Plasma Etching of Nitrogen-Rich TaN Films Using SF6/Ar Chemistry and Oxide Hard Mask: Polymer Residue Formation and Removal Challenges
网址	https://doi.org/10.2139/ssrn.7175176
DOI	10.2139/ssrn.7175176 doi
其它	期刊：作者：Angela Crespi; Sébastien AVERTIN; Pathé Tewe; Ferdinando Iucolano; Aurore Constant; et al 出版日期：2026-07-25
求助人	wei0117 在 2026-10-23 12:03:31 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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