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Effects of plasma oxidation and plasma nitridation on chemical bonding state of AlScN evaluated by AR-HAXPES AR-HAXPES评价等离子体氧化和等离子体氮化对AlScN化学键态的影响
相关领域
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Tomoya Tsutsumi; Kazuki Goshima; Yoshiharu Kirihara; Tatsuki Okazaki; Akira Yasui; et al 出版日期:2024-03-29 |
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