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 Using a coupled optical and electrical monitoring method to follow the R-HiPIMS TiO2 deposition process drifts 相关领域
高功率脉冲磁控溅射
材料科学
占空比
沉积（地质）
等离子体
分析化学（期刊）
基质（水族馆）
光谱学
溅射
光电子学
光学
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期刊：Physica Scripta 作者：David Boivin; Ronny Jean-marie-desiree; A. Najah; Stéphane Cuynet; Ludovic de Poucques 出版日期：2024-03-12 |
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