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标题
Photoinduced Dehalogenation‐Based Direct In Situ Photolithography of CsPbBr3 Quantum Dots Micropatterns for Encryption and Anti‐Counterfeiting with High Capacity
基于光致脱卤的CsPbBr3量子点高容量加密防伪微图案直接原位光刻
相关领域
光刻 材料科学 量子点 纳米技术 光子学 光电子学 紫外线 制作 光子晶体 医学 病理 替代医学
网址
https://doi.org/10.1002/sstr.202400078
AI链接 doi.org doaj.orgdoi.org
DOI
10.1002/sstr.202400078 doi
其它 期刊：Small Structures
作者：Wanting Li; Manchun Wu; Haini Chen; Peng Zhang; Zhixiong Cai; et al
出版日期：2024-05-16
求助人
liuxch5 在 2025-12-12 15:38:41 发布自山西，悬赏 10 积分
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